高性能アナモルフィックプリズム

1。 ゲルマニウム（ge）

ゲルマニウム（ge）は、8〜12μmの波長帯の高性能赤外線イメージングシステムに適したレンズおよびウィンドウ材料です。その高い屈折率は、最小の表面曲率のために、ゲルを低出力画像形成システムに理想的にする。色収差は小さく、多くの場合補正が不要です。

2。 シリコン（si）

シリコン（si）は、チョクラルスキー引上げ法（cz）によって成長し、吸収帯を引き起こす酸素を含みます。 これを回避するために、材料はフロートゾーン（ｆｚ）プロセスによって調製することができる。光学シリコンは一般に低濃度ドープ １０ミクロンを超える最良の透過率のためには（５〜４０オームｃｍ）、ドーピングは通常ホウ素（ｐ型）およびリン（ｎ型）である。 ドーピング後のシリコンは、３０から１００ミクロンのさらなる通過帯域を有し、これは非常に高い抵抗率においてのみ有効である。 補償されていない資料

ｃｚシリコンは、１．５〜８ミクロン領域の赤外線反射体および窓用の基板材料として一般的に使用されている。の 9ミクロンの強い吸収帯はそれをCO2レーザー伝送用途には不適当にします、しかしそれは頻繁に その高い熱伝導率および低い密度のためにレーザーミラーに使用されます。窓、レンズとしての用途 1.5〜8μmの地域。二酸化炭素レーザーおよび分光計の適用のためのミラー。

強い熱と圧力の下でのマルチスペクトルでは、結晶格子内の欠陥は事実上排除され、 最小の散乱と0.4〜12ミクロンの高い透過率特性を持つ無色透明の材料。この素材は 広い波長にわたって機能しなければならない高性能の一般的な開口システムに特に適しています スペクトラム。

仕様：

材料：znsマルチスペクトル
直径公差：--------------------- +0.0、-0.1mm
厚さの許容範囲：--------------------±0.1 mm
クリアアパーチャ：----------------------------＆gt; 85％
並列処理：----------------------------------- 3分
表面品質：---------------------------- 80-50スクラッチと掘り
波面歪み：--------------------λ/ 2 / 25mm @ 633mm
ベベル：-----------------------------------------保護用（＆lt; 0.2 mm x 45°）
コーティング：--------------------------------------オプション（コーティングなし、arコーティングなど）

材料をznse

znseは、赤外線での吸収率が低いため、レンズ、窓、出力カプラ、およびビームエキスパンダに適した材料です。 波長とその可視透過率高出力アプリケーションでは、材料のバルク吸収と 内部欠陥構造を注意深く制御し、最小損傷研磨技術を採用する。 最高品質の光学薄膜コーティングが使用されています。材料吸収は、ＣＯ ２レーザー真空熱量測定によって確認される。 当社の品質保証部門が要求に応じてテストと特定の光学認証を提供します。

強酸で処理しない限り、znseは非吸湿性で化学的に安定です。ほとんどの産業で使用しても安全です 分野および実験室の環境。

Product Features:

· Developed for 2/3" image format
· Low distortion
· High relative illumination

· Focus and iris fixed with screw

Product information: Custom designs are available upon request.